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  • 鍍膜材料功能分為？

    　  真空鍍膜對塑膠基材的要求：很多用于化妝品包材的塑膠都適合采用真空鍍膜工藝進行表面裝飾化，比如：ABS、AS、PP、亞克力、PET、PETG等。　　鍍膜有許多優(yōu)點，如設(shè)備與工藝相對比較簡單，即可沉積非常純凈
    發(fā)布時間：2021-10-15 00:00:00

  • 真空鍍膜加工對環(huán)境的要求

    隨著真空鍍膜加工的快速發(fā)展，各種類型的真空鍍膜機逐漸出現(xiàn)。然而，在薄膜均勻性方面，所有真空設(shè)備鍍膜的均勻性都會受到一些因素的影響。因此，真空鍍膜對環(huán)境有一定的要求：基板（基板）表面的清潔處理在真空鍍膜
    發(fā)布時間：2021-10-11 00:00:00

  • 光學(xué)鍍膜的重要領(lǐng)域

    在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用中，涂層靶材是核心技術(shù)。不同的靶材中含有不同的稀有金屬，形成不同的光學(xué)鍍膜。常用的稀有金屬包括氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、鎵、硒等金屬。銅、鉬、硅、鍺
    發(fā)布時間：2021-10-07 00:00:00

  • 光學(xué)鍍膜質(zhì)量標準

    　光學(xué)鍍膜早用在光學(xué)元件表面制備保護膜，透光度與鍍膜的折射率有關(guān)，對于鍍膜厚度，會發(fā)現(xiàn)反射光與反射光相差nc×2d的光程差。如果nc×2d=（N+1/2）λ，其中N=0,1,2,3,4,5.....，λ為光在空氣中的波長。則會造成該
    發(fā)布時間：2021-09-28 00:00:00

  • 真空鍍膜加工不勻稱的難題的解決方法

    隨著技術(shù)水平的不斷發(fā)展，真空鍍膜加工不均勻的問題在一定程度上得到了解決，但從大范圍來看，在所有情況下，在應(yīng)用過程中都會出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。不對稱性是肯定存在的，但如果我們能夠進行更強的調(diào)整，當其相對性處于
    發(fā)布時間：2021-09-24 00:00:00

  • 真空鍍膜加工中頻磁控濺射知識簡介

    真空鍍膜加工磁控濺射技術(shù)有很多種。每個都有不同的工作原理和應(yīng)用對象。但有一個共同點：磁場和電子之間的相互作用使電子在靠近目標表面的掩埋螺旋中運行，從而增加電子撞擊氬產(chǎn)生離子的概率。產(chǎn)生的離子在電場的作
    發(fā)布時間：2021-09-15 00:00:00

  • 真空鍍膜加工之前應(yīng)注意什么？

    不銹鋼首飾因其可塑性強、顏色多樣等特點，可采用真空鍍膜加工制作，在時尚首飾行業(yè)中興起。為了使不銹鋼首飾在電鍍前具有良好的表面光澤，應(yīng)注意以下幾點：1.因為不銹鋼首飾的表面厚度均勻，所以更容易清潔。只需去
    發(fā)布時間：2021-09-11 00:00:00

  • 真空鍍膜加工的濾片透射率

    　　由于全介質(zhì)多層反射膜只在有限的區(qū)域是有效的，因此濾光片透射率峰值的兩邊會出現(xiàn)旁通帶．在大多數(shù)應(yīng)用中需要將它們弄掉．短波旁通帶只要在濾光片上疊加一塊長波通吸收玻璃濾光片便很容易去掉，但是很不容易得到
    發(fā)布時間：2021-08-31 00:00:00

  • 鍍膜材料怎么產(chǎn)生的折射光？

    　　當一柬自然光垂直入射在鍍膜材料上時，所有方向的偏振光相對于薄膜來說都是一樣的，因而具有相同的反射率和透射率,也即反射光和透射光依然是自然光、但當傾斜入射時,在一股潸況下,反射光和透射光都是部分偏振光.
    發(fā)布時間：2021-08-25 00:00:00

  • 光學(xué)鍍膜的特點

    　　光學(xué)鍍膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)鍍膜的光學(xué)性質(zhì)。當一束單色平面波入射到光學(xué)鍍膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方
    發(fā)布時間：2021-08-17 00:00:00

  • 真空鍍膜加工的性能優(yōu)勢

    　　真空鍍膜加工工藝中，要求裝配到高真空環(huán)境的零件，事先都需要小心地進行清洗處理，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來源，會大大延長真空器件的排氣時間，不易獲得高真空。
    　　去除或減少污染物將有
    發(fā)布時間：2021-08-09 00:00:00

  • 鍍膜材料中的各種性質(zhì)溫度

    　　鍍膜材料呈連續(xù)狀態(tài)的較大特點依然是表現(xiàn)出各種性質(zhì)對膜55% B 56°C ;厚的依賴性，而且在許多情況下，這種依賴性與溫度有很大關(guān)系，即溫度越低，現(xiàn)象越明顯。　　高真空蒸鍍的鍍膜，與膜厚的關(guān)系甚小，而且在某
    發(fā)布時間：2021-07-22 00:00:00
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