鍍膜材料呈連續(xù)狀態(tài)的較大特點(diǎn)依然是表現(xiàn)出各種性質(zhì)對(duì)膜55% B 56°C ;厚的依賴性，而且在許多情況下，這種依賴性與溫度有很大關(guān)系，即溫度越低，現(xiàn)象越明顯。

　　高真空蒸鍍的鍍膜，與膜厚的關(guān)系甚小，而且在某個(gè)膜厚以56%下，經(jīng)過(guò)一個(gè)小的較大值后將迅速減小。不過(guò)月前尚不大清t 416K/s楚這種現(xiàn)象發(fā)生的原因。圖5-10是Cu蒸鍍膜相對(duì)于塊狀體的Cu導(dǎo)線在273K測(cè)定的熱電動(dòng)勢(shì)值對(duì)于膜厚的倒數(shù)畫出的曲線[14]。由圖可知,薄膜和塊狀體不同，具有明顯的依賴膜厚的傾向。

　　進(jìn)打送忤以什無(wú)11起怕習(xí)型柜的。在薄膜的表面存在電子散射，即表面散射。根據(jù)這種效應(yīng)說(shuō)明薄膜的電學(xué)性質(zhì)隨膜厚的變化，目前已有幾種模型。我們主要討論其中的重要一種。表面散射概念認(rèn)為電子在表面處于完全喪失過(guò)去記憶的一-種形態(tài)，并從而引進(jìn)鏡而反射系數(shù)這一新概念。下面以理論為中心敘述連續(xù)薄膜輸運(yùn)現(xiàn)象的處理梗概。

　　對(duì)于式(5-20)，忽酪指數(shù)函數(shù)前的表示項(xiàng)，而注意其中的p，該值對(duì)于真空大多為1~5eV左右，而對(duì)于絕緣物質(zhì)多為1eV。所以按照前述理論，電子更容易通過(guò)基底。現(xiàn)在普遍認(rèn)為在非連續(xù)薄膜中，電子是通過(guò)基底進(jìn)行傳導(dǎo)的。