在光學鍍膜材料的應用中，涂層靶材是核心技術。不同的靶材中含有不同的稀有金屬，形成不同的光學鍍膜。常用的稀有金屬包括氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、鎵、硒等金屬。銅、鉬、硅、鍺等金屬被廣泛應用于反射鏡的光學鍍膜中。鍺、砷化鎵和硒化鋅廣泛應用于輸出和傳輸光學元件中。

光學鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它是以真空技術為基礎，采用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一系列新技術制備薄膜的新工藝。簡言之，它是一種在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物，使其固化并沉積在涂層物體（稱為基材、基材或基材）上的方法。

真空鍍膜技術廣泛應用于塑料制品中。塑料具有易成型、成本低、重量輕、無腐蝕等特點，因此塑料制品得到了廣泛的應用，但其不美觀、易老化、力學性能差、耐熱性和吸水性差等缺點制約了其應用范圍的擴大。

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