真空鍍膜對塑膠基材的要求：很多用于化妝品包材的塑膠都適合采用真空鍍膜工藝進行表面裝飾化，比如：ABS、AS、PP、亞克力、PET、PETG等。

　　鍍膜有許多優點，如設備與工藝相對比較簡單，即可沉積非常純凈的膜層，又可制備具有特定結構和性質的膜層等等，仍然是當今非常重要的鍍膜技術。

　　為了避免蒸發源材料在鍍膜材料蒸發時也同時蒸發，影響薄膜的純度，一般應選擇鍍膜材料的溫度到達蒸發溫度時，蒸發源材料的蒸氣壓低于10-6Pa的材料做蒸發源。

　　采用真空蒸發鍍膜制作預定成分的合金薄膜的方法，經常采用的是瞬間蒸發法和雙蒸發源蒸鍍法。

　　鍍膜系統一般由三個部分組成：真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發物，同時需要提供蒸發熱使蒸發物達到足夠高的溫度以產生所需的蒸汽壓。

　　從材料功能分，鍍膜材料可分為：

　　a.光介質材料：起傳輸光線的作用。這些材料以折射、反射和透射的方式改變光線的方向、強度和相位，使光線按預定要求傳輸，也可吸收或透過一定波長范圍的光線而調整光譜成份。

　　b.光功能材料：這種材料在外場（力、聲、熱、電、磁和光）的作用下，光學性質會發生變化，因此可作為探測、保護和能量轉換的材料（如AgCl2,WO3等）。