光學(xué)鍍膜技術(shù)

　　1、蒸騰堆積

　　在蒸騰堆積時(shí)，真空室中的源資料受到加熱或電子束轟擊而蒸騰。蒸氣冷凝在光學(xué)外表上。在蒸騰期間，經(jīng)過準(zhǔn)確操控加熱，真空壓力，基板定位和旋轉(zhuǎn)能夠制造出具有特定厚度的均勻光學(xué)鍍膜。

　　蒸騰具有相對(duì)溫和的性質(zhì)，會(huì)使鍍膜變得松懈或多孔。這種松懈的鍍膜具有吸水性，改變了膜層的有效折射率，將導(dǎo)致性能下降。經(jīng)過離子束輔助堆積技術(shù)能夠增強(qiáng)蒸騰鍍膜，在該過程中，離子束會(huì)對(duì)準(zhǔn)基片外表。這增加了源資料相對(duì)光學(xué)外表的粘附性，發(fā)生更多應(yīng)力，使得鍍膜更致密，更耐久。

　　2、離子束濺射(IBS)

　　在離子束濺射(IBS)時(shí)，高能電場(chǎng)能夠加快離子束。這種加快度使得離子具有顯著的動(dòng)能。在與源資料撞擊時(shí)，離子束會(huì)將靶材的原子“濺射”出來。

　　這些被濺射出來的靶材離子(原子受電離區(qū)影響變?yōu)殡x子)也具有動(dòng)能，會(huì)在與光學(xué)外表觸摸時(shí)發(fā)生致密的膜。IBS是一種準(zhǔn)確的，重復(fù)性強(qiáng)的技術(shù)。

　　3、等離子體濺射

　　等離子體濺射是一系列技術(shù)的總稱，例如高級(jí)等離子體濺射和磁控管濺射。不管是哪種技術(shù)，都包含等離子體的發(fā)生。

　　等離子體中的離子經(jīng)加快射入源資料中，撞擊松懈的能量源離子，然后濺射到目標(biāo)光學(xué)元件上。雖然不同類型的等離子體濺射具有其共同的性質(zhì)和優(yōu)缺點(diǎn)，不過咱們能夠?qū)⑦@些技術(shù)調(diào)集在一起，由于它們具有共同的工作原理，它們之間的差異，相比這種鍍膜技術(shù)與本文中觸及的其他鍍膜技術(shù)之間的差異小得多。

　　4、原子層堆積

　　與蒸騰堆積不同，用于原子層堆積(ALD)的源資料不需要從固體中蒸騰出來，而是直接以氣體的方式存在。雖然該技術(shù)運(yùn)用的是氣體，真空室中依然需要很高的溫度。

　　在ALD過程中，氣相前驅(qū)體經(jīng)過非重疊式的脈沖進(jìn)行傳遞，且脈沖具有自限制性。這種工藝擁有共同的化學(xué)性設(shè)計(jì)，每個(gè)脈沖只粘附一層，而且對(duì)光學(xué)件外表的幾何形狀沒有特殊要求。因此這種工藝使得咱們能夠高度的對(duì)鍍層厚度和設(shè)計(jì)進(jìn)行操控，但是會(huì)下降堆積的速率。

　　5、亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)化外表

　　小于光波長(zhǎng)的外表結(jié)構(gòu)已成為光學(xué)界的一門研究課題，其靈感來自于飛蛾眼睛上的紋路圖畫。外表紋路化依然是一種發(fā)展中的技術(shù)，與傳統(tǒng)的薄膜鍍膜替換堆積高折射率資料和低折射率資料不同的是，它需要改變基片外表的結(jié)構(gòu)。

　　紋路外表上的特征能夠是隨機(jī)的或周期性的，猶如飛蛾眼睛的圖畫。對(duì)于亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)化外表的制造，如果想要周期性的圖畫，咱們能夠選用光刻法，如果想要隨機(jī)的圖畫，咱們能夠選用改進(jìn)的等離子體蝕刻。