我們知道，光學鍍膜方式，主要有兩種：一種是物理氣相沉積，俗稱真空鍍膜，真空蒸發、濺射鍍膜等；另一種是化學氣相沉積，即通過電化學反應實現鍍膜，比如電鍍、電泳、陽極氧化等。

　　真空鍍膜技術，無論從環保上，還是鍍膜性能上，都受到行業的歡迎，而國內鍍膜企業，在不斷通過引進國外先進鍍膜設備，結合自身鍍膜行業的經驗和技術實踐，走出了一條光學鍍膜的快速發展之路，在經濟和效益上，取得了可喜的成績。

　　主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們在國民經濟和國防建設中得到了廣泛的應用，獲得了科學技術工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小，采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高，利用光學薄膜可提高硅光電池的效率和穩定性。

　　用來選取所需輻射波段的光學器件，濾光片的一個共性，就是沒有任何濾光片能讓天體的成像變得更明亮，因為所有的濾光片都會吸收某些波長，從而使物體變得更暗。

　　在光學鍍膜材料的應用上，鍍膜靶材是核心技術，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學鍍膜材料，普遍應用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、鎵、硒等金屬。在反射鏡的光學材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學原件中鍺、砷化鎵、硒化鋅等應用廣泛。