隨著鍍膜技術(shù)的不斷發(fā)展，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬。用于不同領(lǐng)域的光學(xué)鍍膜材料絕大部分屬于儲(chǔ)量非常小的稀有金屬。這些稀有金屬和稀土在工業(yè)領(lǐng)域的用量很少，但不可或缺，被稱為工業(yè)維生素。

　　在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過(guò)不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、鎵、硒等金屬。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，

　　鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。光學(xué)鍍膜是在光學(xué)干涉原理，在可見(jiàn)光和紅外線波段范圍內(nèi)，使反射率在78-98%之間，以達(dá)到透光率，光學(xué)鍍膜技術(shù)一直是光學(xué)領(lǐng)域中不可忽略的重要基我們知道，光學(xué)鍍膜方式，主要有兩種：一種是物理氣相沉積，俗稱真空鍍膜，真空蒸發(fā)、濺射鍍膜等；另一種是化學(xué)氣相沉積，即通過(guò)電化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)鍍膜，比如電鍍、電泳、陽(yáng)極氧化等。

　　目前光電行業(yè)需要大量的中高等光學(xué)鍍膜機(jī)進(jìn)行擴(kuò)容和技術(shù)改造。在相關(guān)零部件的研發(fā)過(guò)程中，及時(shí)的工藝創(chuàng)新和相應(yīng)的設(shè)備保障是技術(shù)創(chuàng)新的基石，是整個(gè)行業(yè)可持續(xù)發(fā)展的基本戰(zhàn)略。