1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

　　2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

　　二、原理的區別

　　1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

　　薄膜材料生長在基體材料(如玻璃、光學玻璃等)上，通常由金屬、非金屬、合金或復合材料的涂層形成。它具有高滲透性、吸收性、截止性、光分離性、反射性、過濾性、干擾性、防護性、防水防污性、抗靜電性、導電性、導磁性、絕緣性、耐磨性。具有耐高溫、耐腐蝕、耐氧化、防輻射、裝飾重組等功能，可提高產品質量、環保、節能、延長產品使用壽命。提高原有性能等。目前，薄膜的制備技術主要包括物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)。

　　薄膜材料生長于基板材料(如屏顯玻璃、光學玻璃等)之上，一般由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經過鍍膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護、防水防污、防靜電、導電、導磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾和復合等功能，并能夠提高產品質量、環保、節能、延長產品壽命改善原有性能等。目前，薄膜材料制備技術主要包括物理氣相沉積(PVD)技術和化學氣相沉積(CVD)技術。