鍍膜材料有很多用途，在我們生活中也經(jīng)常出現(xiàn)，下面我們來看看吧!

　　鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。

　　氟化物

　　氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

　　其它化合物

　　硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。

　　金屬鍍膜材料

　　高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純鉭TA，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。

　　非導電樣品絕緣電阻大，在電子束的接連掃描下，樣品外表逐步積累負電荷，構(gòu)成相當高的負電場，排斥入射電子，二次電子發(fā)射不安穩(wěn)，并隨機偏轉(zhuǎn)二次電子軌道，影響探測器接收，構(gòu)成圖畫晃動、亮度突變、呈現(xiàn)無規(guī)則的明暗條紋，這就是所謂的“荷電效應”，也稱“充電效應”。一般鍍一層導電薄膜可以進步樣品的導電性，外表的負電荷通過導電膜釋放入地，消除荷電現(xiàn)象。電荷釋放的條件是膜層應該與金屬樣品臺相連接，構(gòu)成導電通道。接連的導電膜也可以進步樣品的導熱性，減小熱損害。現(xiàn)在實驗室常用的鍍膜技術(shù)為真空蒸發(fā)和離子濺射。