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真空鍍膜加工的常用辦法

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真空鍍膜加工的常用辦法

發布日期:2019-11-23 00:00:00 作者: 點擊:0

  真空鍍膜加工的常用辦法

  真空鍍膜加工的辦法許多:

 ?。?)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣到達約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結而成薄膜。

  (2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發輝光放電,帶正電的氬離子碰擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子經過惰性氣氛堆積到基體上形成膜。

 ?。?)化學氣相堆積:經過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,取得堆積薄膜的進程。

  (4)離子鍍:實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合,兼有兩者的工藝特點。


本文網址:http://erinandcole.com/news/45.html

關鍵詞:真空鍍膜加工的常用辦法

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