真空鍍膜和光學鍍膜有什么差異

　　一、概念的差異

　　1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬資料，使其蒸騰并凝聚于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）外表而構成薄膜的一種辦法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

　　2、光學鍍膜是指在光學零件外表上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝進程。在光學零件外表鍍膜的意圖是為了到達減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

　　二、原理的差異

　　1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為根底，使用物理或化學辦法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產供給薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸騰或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝聚并堆積的辦法。

　　2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的遍及辦法是憑借真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來操控基板對入射光束的反射率和透過率，以滿意不同的需求。為了消除光學零件外表的反射丟失，進步成像質量，涂鍍一層或多層通明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。

　　跟著激光技術的開展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的開展。為各種應用需求，使用高反射膜制作偏振反光膜、五顏六色分光膜、寒光膜和干涉濾光片等。光學零件外表鍍膜后，光在膜層層上屢次反射和透射，構成多光束干涉，操控膜層的折射率和厚度，能夠得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

　　三、辦法和資料的差異

　　1、真空鍍膜的辦法資料：

　　(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽暇后將膜料加熱到高溫，使蒸氣到達約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體外表，凝聚而成薄膜。

　　(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽暇的室內，堅持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子碰擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛堆積到基體上構成膜。

　　(3)化學氣相堆積：通過熱分化所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得堆積薄膜的進程。

　　(4)離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特色。表6-9列出了各種鍍膜辦法的優缺點。

　　2、光學鍍膜辦法資料

　　(1)氟化鎂：無色四方晶系粉末，純度高，用其制備光學鍍膜可進步透過率，不出崩點。

　　(2)二氧化硅：無色通明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸騰狀況好，不呈現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

　　(3)氧化鋯：白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫功能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。