鍍膜材料的熱穩定性表現如下：

多層膜的熱穩定性要求：在極紫外光源用大口徑曲面反射鏡上，鍍制的周期性Mo/Si多層膜膜厚必須沿其表面呈橫向梯度分布以保證較高的EUV反射率。同時，由于極紫外光源用反射鏡靠近光源，受到的輻照強度大，多層膜長期處于高熱負載使用環境下，薄膜內部溫度升高會產生鉬硅化合物，多層膜光學性能下降。因此，鍍制在極紫外光源用大口徑曲面反射鏡表面上的Mo/Si多層膜在熱穩定性方面也面臨較高的要求

提高熱穩定性的方法：在提高Mo/Si多層膜反射鏡熱穩定性的研究中，常見的方法為材料置換法和添加阻隔層法。例如，利用磁控濺射法制備了Mo/C/Si/C多層膜，在500℃、100h條件下退火后仍保持58.5%的EUV反射率，波長僅0.16nm的漂移，顯示出優異的熱穩定性

C擴散阻隔層的影響：通過添加C阻隔層，有效提高了Mo/Si多層膜的熱穩定性，所制備的Mo/C/Si/C多層膜在300℃下退火后反射率僅下降1.8%

熱穩定性測試結果：在300℃、2小時條件下退火后，Mo/Si多層膜的周期厚度減小約0.30nm，而Mo/C/Si/C多層膜的周期厚度變化僅為0.03nm，表明C阻隔層可以有效緩解Mo層和Si層界面處的相互擴散，加快了多層膜熱穩定性

熱穩定性對光學性能的影響：Mo/Si多層膜在300℃、2小時條件下退火后，EUV反射率由64.4%下降~55.4%，而Mo/C/Si/C多層膜退火后反射率僅下降1.8%，波長僅偏移0.02nm，退火前后的測試曲線基本重合，顯示出Mo/C/Si/C多層膜具有的熱穩定性