光學(xué)鍍膜的真空蒸鍍是在10-8~10-4Pa的壓力下，采用各種形式的熱能轉(zhuǎn)換方式使鍍膜材料蒸發(fā)，并成為具有- -定能量的氣粒子(原子、分子或原子團(tuán)),蒸發(fā)的氣態(tài)粒子通過基本.上無碰撞的直線運(yùn)動方式傳輸?shù)交祝缓笤诨咨夏鄢杀∧ぁ；淄ǔ＝拥兀患悠珘骸Ｔ谡婵照翦儠r(shí)，氣態(tài)粒子是由放于蒸發(fā)源中的蒸發(fā)材料產(chǎn)生的，而蒸發(fā)源的加熱可以采用電阻法、高頻感應(yīng)法.電子束轟擊、激光蒸發(fā)或放電法等。

　　該真空蒸鍍設(shè)備的工作室為金屬鐘罩，并備有手動的或液壓的提升機(jī)構(gòu)。底盤下面是由機(jī)械泵和擴(kuò)散泵組成的抽氣系統(tǒng)，通過真空閥門對工作室抽真空。氣體過針閥進(jìn)人真空室，底盤上有真空測試用的規(guī)管。利用.上述的抽氣系統(tǒng)可以使工作室的真空度達(dá)10-3~10-4Pa以上,采用加熱器烘烤基片以便去除基片上吸附的氣體。鍍膜材料是通過電阻加熱的蒸發(fā)源來蒸發(fā)的，它們可以呈絲狀或加工成舟狀。鍍膜材料呈“游標(biāo)”狀態(tài)懸掛著或纏繞在蒸發(fā)源絲的上面。有些材料是從陶瓷坩堝中蒸發(fā)，用螺旋形加熱器通電加熱。

　　利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜機(jī)的構(gòu)造簡單、造價(jià)便宜、使用可靠,可用于熔點(diǎn)不太高的材料(低于1300°C)的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。采用電阻加熱蒸發(fā)的蒸鍍技術(shù)時(shí),值得注意的是加熱器材料的選用。常用的電阻加熱器的材料為W、Ta和Mo等高熔點(diǎn)的金屬。表1-2為蒸發(fā)加熱器材料的性質(zhì)。在加熱時(shí)，加熱器材料被蒸發(fā)的分子數(shù)非常少，這樣才

　　能減少使加熱器材料作為雜質(zhì)而進(jìn)人薄膜的可能性。為了做到這一點(diǎn)，加熱器材料的使用溫度應(yīng)當(dāng)?shù)陀谒钠胶庹魵鈮簽?0-°Pa的溫度。此外，要選擇合適的加熱器材料和燕發(fā)材料的組合，使它們在高溫時(shí)不會因?yàn)榘l(fā)生擴(kuò)散和化學(xué)反應(yīng)而形成合金或化合物。