目前，鍍膜技術作為材料制備的新技術，已從實驗室的探索性研究轉而應用于大規模的工業生產，并且正在向各個行業中滲透,其應用范圍和作用還正在不斷地擴大和深化。這種新技術不僅涉及到物理學、化學、結晶學、表面科學和固體物理等基礎學科，還和真空、冶金和化工等技術領域密切相關。

　　在氣態質遷移時，為了保證膜層的質量，一般都是在真空鍍膜加工或惰性氣氛中進行，并施加電場、磁場或高頻等外界條件來進行活化，以增加到達基底上的氣態物質的能量，提供氣態物質發生反應的能量，即提供氣態物質反應的激活能。薄膜在基底上的形成過程是一個復雜的過程，它包括:膜的形核、長大，膜與基底表面的相互作用等等。近年來，薄膜制作時還在基底上施加電場、磁場、離子束轟擊等輔助手段，其目的都是為了控制凝聚成膜的質量和性能。根據成膜方法的基本。

　　在真空蒸鍍時，氣態粒子是由放于蒸發源中的蒸發材料產生的，而蒸發源的加熱可以采用電阻法、高頻感應法、電子束轟擊、激光蒸發或放電法等。圖1-1是真空蒸鍍設備和一些蒸發源的簡圖。該真空蒸鍍設備的工作室為金屬鐘罩，并備有手動的或液壓的提升機構。底盤下面是由機械泵和擴散泵組成的抽氣系統，通過真空閥門對工作室抽真空。氣體通過針閥進人真空室，底盤上有真空測試用的規管。利用.上述的抽氣系統可以使工作室的真空度達10-9~10-*Pa以上,采用加熱器烘烤基片以便去除基片上吸附的氣體。鍍膜材料是通過電阻加熱的蒸發源來蒸發的，它們可以呈絲狀或加工成舟狀。鍍膜材料呈“游標”狀態懸掛著或纏繞在蒸發源絲的上