在真空鍍膜加工方面，通常對蒸發源應考慮蒸發源的材料和形狀，一般對蒸發源材料的要求是：

　　(1)化學性能穩定，在高溫下不應與蒸發材料發生化學反應。在高溫下某些蒸發源材料，與蒸發材料之間會產生反應及擴散而形成化合物和合金。特別是形成低共熔點合金蒸發源容易燒斷。例如在高溫時鉭和金會形成合金，鋁、鐵、鎳、鈷也會與鎢、鉬、鉭等蒸發源材料形成合金。鎢還能與水或氧發生反應，形成揮發性的氧化物如WO、WO2或WO3;鉬也能與水或氧反應而形成揮發性MoO3等。因此，應選擇不會與鍍膜材料發生反應或形成合金的材料做該材料的蒸發源材料。

　　作為蒸發源的材料必須具備熔點高、揮發低、高溫冷卻后脆性小等性質。常用的線狀蒸發源應能與蒸發金屬相潤濕，熔點遠遠大于待鍍金屬的蒸發溫度，不與待鍍金屬發生反應生成合金。

　　(2)熔點高。因為蒸發材料的蒸發溫度(平衡蒸汽壓為1.3Pa的溫度)多數在1000~2000℃之間，因此，蒸發源材料的熔點應高于此溫度。

　　(3)平衡蒸汽壓低。這主要是防止或減少高溫下蒸發源材料隨蒸發材料蒸發而成為雜質，進入蒸鍍膜層中。只有在蒸發源材料的平衡氣壓足夠低時，才能保證在蒸發時具有小的自蒸發量，才不致影響系統真空度和污染膜層，為了使蒸發源材料所蒸發的數量非常少，在選擇蒸發溫度、蒸發源材料時，應使材料的蒸發溫度低于蒸發源材料在平衡氣壓為1.3×10-6Pa時的制備高質量的薄膜可采用與1.3×10-3Pa所對應的溫度。