真空鍍膜加工市場很大，現(xiàn)在手機光學(xué)鍍膜，還有一些高科技的光學(xué)儀器和裝備都離不開，市場很大，現(xiàn)在進口的真空鍍膜機比較精密和先進，國產(chǎn)的鍍膜機也還能夠。如果你仔細觀察，許多東西是鍍膜的，包過太陽鏡鍍膜，眼鏡片鍍膜，攝像頭鍍膜，手機鏡片膜片鍍膜等,都是離不開的。

        真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源，弧放電離子源，離子源，射頻離子源，霍爾離子源，冷陰極離子源，電子回旋離子源，陽極層離子源，感應(yīng)耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。

　　離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。

　　高頻離子源

　　利用稀薄氣體中的高頻放電現(xiàn)象使氣體電離，一般用來產(chǎn)生低電荷態(tài)正離子，有時也從中引出負離子，作為負離子源使用。

　　在高頻電場中，自由電子與氣體中的原子(或分子)碰撞，并使之電離。帶電粒子倍增的結(jié)果，形成無極放電，產(chǎn)生大量等離子體。高頻離子源的放電管一般用派勒克斯玻璃或石英管制作。高頻場可由管外螺線管線圈產(chǎn)生，也可由套在管外的環(huán)形電極產(chǎn)生。前者稱為電感耦合,后者稱為電容耦合高頻振蕩器頻率為10 ～10 Hz，輸出功率在數(shù)百瓦以上。

　　從高頻離子源中引出離子可有兩種方式。一種是在放電管頂端插入一根鎢絲作為正極，在放電管尾端裝一帶孔負電極，并把該孔做成管形，從中引出離子流。另一種方式是把正極做成帽形，裝在引出電極附近，而放電區(qū)則在它的另一側(cè)。不管采用哪種引出方式，金屬電極都要用石英或玻璃包起來，以減少離子在金屬表面的復(fù)合。

　　在高頻放電區(qū)域中加有恒定磁場時，由于共振現(xiàn)象可提高放電區(qū)域中的離子濃度。有時，還在引出區(qū)域加非均勻磁場來改善引出。

　　弧放電離子源

　　在均勻磁場中，由陰極熱發(fā)射電子維持氣體放電的離子源。為了減少氣耗，放電區(qū)域往往是封閉的。陽極做成筒形，軸線和磁場方向平行。磁場能很好地約束陰極所發(fā)射的電子流，在陽極腔中使氣體的原子（或分子）電離，形成等離子體密度很高的弧柱。離子束可以垂直于軸線方向的側(cè)向引出，也可以順著軸線方向引出。

　　陽極層離子源

　　若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應(yīng)用于高等光學(xué)鍍膜并不太多。