真空鍍膜加工中真空鍍膜技術(shù)是什么

　　真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相堆積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相堆積（CVD）技術(shù)。

　　物理氣相堆積技術(shù)是指在真空條件下，運用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接堆積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相堆積方法制得，它運用某種物理進(jìn)程，如物質(zhì)的熱蒸騰，或遭到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控搬運進(jìn)程。物理氣相堆積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻細(xì)密、薄膜厚度可控性好、運用的靶材廣泛、濺射規(guī)模寬、可堆積厚膜、可制取成分安穩(wěn)的合金膜和重復(fù)性好等長處。一同，物理氣相堆積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因而可作為最終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于選用物理氣相堆積工藝可大幅度進(jìn)步刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的一同，也對其運用范疇的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的運用進(jìn)行了愈加深化的研究。

　　化學(xué)氣相堆積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，憑仗氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，首要包含常壓化學(xué)氣相堆積、低壓化學(xué)氣相堆積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學(xué)氣相堆積等。