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光學鍍膜基本原理

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光學鍍膜基本原理

發布日期:2019-11-02 00:00:00 作者: 點擊:0

  光學鍍膜基本原理

  光的干與在薄膜光學中廣泛運用。光學薄膜技能的廣泛方法是憑仗真空濺射的方法在玻璃基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿意不同的需求。為了消除光學零件外表的反射丟失,行進成像質量,涂鍍一層或多層通明介質膜,稱為增透膜或減反射膜。跟著激光技能的打開,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的打開。為各種運用需求,運用高反射膜制作偏振反光膜、五顏六色分光膜、寒光膜和干與濾光片等。

  光學零件外表鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,構成多光束干與,控制膜層的折射率和厚度,能夠得到不同的強度散布,這是干與鍍膜的基本原理。

光學鍍膜

本文網址:http://erinandcole.com/news/42.html

關鍵詞:光學鍍膜基本原理

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