如何了解真空鍍膜加工基礎及分類

　　真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技能為基礎，使用物理或化學辦法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技能，為科學研究和實踐出產供應薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸騰或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝結并堆積的辦法，稱為真空鍍膜。

　　眾所周知，在某些資料的外表上，只要鍍上一層薄膜，就能使資料具有許多新的、良好的物理和化學功能。20世紀70年代，在物體外表上鍍膜的辦法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體外表上，因而這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，并且薄膜厚度也難以控制。后者是選用化學還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參與還原反應，這種鍍膜辦法不僅薄膜的結合強度差，并且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會發生很多的廢液，形成嚴重的污染。因而，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的約束。

　　真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜辦法而發展起來的一種新型鍍膜技能，一般稱為干式鍍膜技能。

　　真空鍍膜技能一般分為兩大類，即物理氣相堆積（PVD）技能和化學氣相堆積（CVD）技能。

　　物理氣相堆積技能是指在真空條件下，使用各種物理辦法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接堆積到基體外表上的辦法。制備硬質反應膜大多以物理氣相堆積辦法制得，它使用某種物理進程，如物質的熱蒸騰，或受到離子轟擊時物質外表原子的濺射等現象，完成物質原子從源物質到薄膜的可控搬運進程。物理氣相堆積技能具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射規模寬、可堆積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點。同時，物理氣相堆積技能因為其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因而可作為最終的處理工藝用于高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。因為選用物理氣相堆積工藝可大幅度提高刀具的切削功能，人們在競相開發高功能、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深化的研究。

　　化學氣相堆積技能是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供應基體，憑借氣相作用或基體外表上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的辦法，主要包含常壓化學氣相堆積、低壓化學氣相堆積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相堆積等。