PVD 鍍膜材料主要用以制備各種具有特定功能的薄膜材料，應(yīng)用領(lǐng)域包括平板顯示、半導(dǎo)體、太陽能電池、光磁記錄媒體、 光學元器件、 節(jié)能玻璃、 LED、工具改性、高檔裝飾用品等。

薄膜材料生長在基體材料(如玻璃、光學玻璃等)上，通常由金屬、非金屬、合金或復(fù)合材料的涂層形成。它具有高滲透性、吸收性、截止性、光分離性、反射性、過濾性、干擾性、防護性、防水防污性、抗靜電性、導(dǎo)電性、導(dǎo)磁性、絕緣性、耐磨性。具有耐高溫、耐腐蝕、耐氧化、防輻射、裝飾重組等功能，可提高產(chǎn)品質(zhì)量、環(huán)保、節(jié)能、延長產(chǎn)品使用壽命。提高原有性能等。目前，薄膜的制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)。

薄膜材料生長于基板材料(如屏顯玻璃、光學玻璃等)之上，一般由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經(jīng)過鍍膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護、防水防污、防靜電、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾和復(fù)合等功能，并能夠提高產(chǎn)品質(zhì)量、環(huán)保、節(jié)能、延長產(chǎn)品壽命改善原有性能等。目前，薄膜材料制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學氣相沉積(CVD)技術(shù)。

PVD 技術(shù)是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，指在真空條件下采用物理方法，將某種物質(zhì)表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基板材料表面沉積具有某種特殊功能的薄膜材料的技術(shù)。在PVD 技術(shù)下，用于制備薄膜材料的物質(zhì)，統(tǒng)稱為 PVD 鍍膜材料。經(jīng)過多年發(fā)展，PVD 技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。

CVD 技術(shù)是在高溫下依靠化學反應(yīng)、把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學反應(yīng)生成薄膜材料的技術(shù)