H4是一種高性能的金屬鍍膜材料，常用于光學、半導體行業以及電子設備制造中。其主要材料參數包括以下幾個方面：

　　1.材料組分

　　H4材料是由具有較高純度的鍍鉻和鐵、鎳以及其他雜質元素合金制成。它的組成中鉻的含量高達90%以上，鐵和鎳的含量不足2%。

　　2.膜層顏色

　　因為H4鍍膜材料的主要組分是鉻元素，所以經過表面處理和多層膜層堆積后，它的膜層顏色呈現出銀白色或淺金色，非常具有光澤。

　　3.鍍膜厚度

　　在制造過程中為實現不同的膜層特性和表面效果，H4鍍膜材料的鍍膜厚度會有所不同，但通常在0.1至10微米之間。

　　4.防腐性能

　　由于鍍鉻元素具有很強的抗氧化和耐腐蝕性能，在電子設備、航空器和半導體行業等領域中，H4材料常用于制造高標準的表面膜層以提高其防腐性能。

　　5.透過率和反光率

　　H4材料的透過率和反光率是其重要的光學參數之一。在透過率方面，一般在400nm至800nm之間，透過率為20~70%；在反光率方面，鉻膜可以達到80%甚至以上。

　　總之，H4鍍膜材料具有高純度、表面光滑、防腐性能好、反光率高以及良好的機械性能等特點，適用于眾多行業，可以滿足各種復雜的應用需求。