光學鍍膜是一種將多層光學薄膜沉積到光學元件表面上的技術，以改變光學元件的反射、透射、吸收等光學性質，從而實現各種光學器件的設計和應用。依據不同的沉積方式和沉積設備的工作原理，可以將光學鍍膜分為以下幾種方式：物理氣相沉積（PVD）、化學氣相沉積（CVD）、電子束蒸發（EBE）、離子束沉積（IBS）和濺射沉積（MS）。以下是對這些方式的簡要介紹：

　　物理氣相沉積（PVD）

　　物理氣相沉積是通過將材料加熱使其蒸發，并沉積在光學元件表面上。薄膜的組成和性質由所用的材料、沉積速率、氣壓等因素決定。

　　化學氣相沉積（CVD）

　　化學氣相沉積是通過在高溫下將反應氣體加入到反應室中，使其和基體表面反應，并沉積出所需的薄膜。具有優秀的均勻性、純度、致密性等特點。

　　電子束蒸發（EBE）

　　電子束蒸發是通過高速運動的電子束轟擊材料表面，使其蒸發并沉積在基底表面上。薄膜的厚度和光學性質可以通過控制電子束的運動速度和功率進行調節。

　　離子束沉積（IBS）

　　離子束沉積是通過將材料的原子或離子通過加速器加速到高速，然后通過靶材表面形成的離子束，轟擊光學元件表面，使其沉積上薄膜。該方式制備的薄膜具有非常高的均勻性和致密性。

　　濺射沉積（MS）

　　濺射沉積是通過將材料放置于高壓惰性氣體環境下，通過真空電弧等設備將材料離子化，并加速到光學基底表面，沉積成膜。這種方法可以用于各種材料的沉積，控制沉積過程也比較簡單，但常常需要使用大量的材料。