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鍍膜材料的性能隨薄膜厚度的變化而變化，在500nm處折射率約為1.8。它是非常受歡迎的鋁保護膜，特別是在800-1 2000nm高入射角的區域，可作為玻璃保護膜，并可24小時暴露在濕氣中。一般為粒狀和片狀。
鍍膜組分的均勻性不是很容易保證，具體因素可以按上述規定進行調節，但由于原理有限，對于非單組分鍍膜，蒸發鍍膜組分均勻性不好。薄膜材料的主要技術之一是指在真空條件下，通過物理方法在某些材料表面氣化成氣態原子和分子或部分電離成離子的技術。并通過低壓氣體(或等離子體)工藝在基材表面沉積具有某些特殊功能的薄膜材料。在PVD技術中，用于制備薄膜材料，統稱PVD鍍膜材料。
